3月28日，上海SEMICON China 2025展會現場，深圳國資委旗下新凱來半導體攜中國"名山"系列產品矩陣震撼亮相。

這家成立僅三年的企業一次性發布涵蓋刻蝕、薄膜沉積、量測檢測等六大類31款設備，其中：

? 工藝突破：外延沉積EPI設備（峨眉山系列）實現8英寸向12英寸跨越，填補國內GaN-on-SiC功率器件制造空白

? 精度躍升：原子層沉積ALD設備（阿里山系列）突破0.1nm膜厚控制極限，滿足FinFET到GAA晶體管工藝迭代需求

? 檢測革命：X射線量測設備（天門山系列）搭載自研微焦點光源，實現5nm以下芯片缺陷檢測精度突破

這是無聲資本共振：國產替代引發連鎖反應？

新品發布當日，美國應用材料（AMAT）、泛林集團（Lam Research）股價應聲下跌4.2%和3.8%，東京電子（TEL）創三個月最大單日跌幅。資本市場用真金白銀印證了《中國制造2025》半導體設備國產化率的加速兌現——2024年國產設備中標率已達35%，較三年前提升22個百分點。

新凱來CTO李明哲在發布會上透露，公司已構建"設備+檢測+數據"三位一體解決方案，其岳麓山系列量測設備通過AI算法實現工藝參數實時優化，良率提升效率較傳統方案提高3倍。

這種"軟硬協同"模式正在改寫設備商單純比拼硬件性能的行業規則。

盡管技術突破亮眼，但行業觀察人士指出隱憂：新凱來31款設備中涉及光刻機配套的量檢測設備占比不足15%，而美國商務部3月25日剛更新對華半導體設備管制清單，新增14nm以下量測設備出口限制。

這場國產替代攻堅戰正從技術突破轉向國際標準博弈，產業鏈共振效應初顯。

在深圳華強北電子市場，與新凱來設備兼容的國產光刻膠、靶材供應商已接到緊急訂單。

某晶圓廠工程師透露："采用全套國產方案后，28nm芯片制造成本較進口設備降低28%，但前道量測設備仍需荷蘭供應商技術授權。

"這揭示出國產替代進程中"核心設備突破易，配套生態構建難"的現實困境。

產業觀察家魏少軍：中國半導體發展需回歸技術攻堅本質

在近期行業峰會上，中國半導體行業協會副理事長魏少軍教授針對產業現狀提出系統性思考，其核心觀點可概括為三個維度：

1. 實業精神破除行業浮躁癥結

? 直指互聯網思維對半導體產業的認知誤導："風口論"催生的估值泡沫已造成近十年行業資源錯配，部分企業沉迷資本運作而忽視核心技術突破

? 以新凱來等企業為樣本，論證"持續投入-技術沉淀-市場反哺"的正向循環邏輯，其31款設備矩陣正是十年磨一劍的實證

2. 差異化競爭重構產業生態

? 強調"有效創新"的重要性：在光刻機、EDA等卡脖子領域需集中火力攻堅，而在成熟制程設備、車規芯片等賽道應建立特色優勢

? 揭示當前產業誤區：盲目追求全產業鏈布局反而分散資源，應借鑒ASML"專精路線"，實現關鍵環節的全球不可替代性

3. 長期主義對抗周期波動

? 對比中美半導體發展軌跡：美國企業平均研發投入強度（15%-20%）遠超國內同行（5%-8%），技術差距實質是研發耐力的差距

? 提出"三正確"方法論：做正確的事（戰略聚焦）、正確地做事（精益管理）、正確地評價（長效考核），建議建立十年期技術路線圖

魏少軍的發言折射出中國半導體產業正在經歷認知升級：從追逐短期資本熱點轉向構建技術護城河，從全民造芯狂熱回歸理性務實。

正如其警示："當某個企業展示300項專利時，更需要追問其中多少是有效專利，多少能轉化為產品競爭力。"這種穿透式洞察，或許能為行業祛魅提供重要坐標。

新凱來的爆發式發布標志著中國半導體設備進入'集團軍作戰'階段，"芯謀研究首席分析師顧文軍表示，"但需警惕技術冒進風險——EPI設備雖實現12英寸突破，但其均勻性指標距國際先進水平仍有15%差距，量產爬坡才是真正考驗。"

寫到最后：中美技術市場脫鉤是未來趨勢，不要有幻想。但是不是股市炒作題材還不好說，中國很多專家不是說了中國光刻機芯片落后美國10年以上？

總之，一山更比一山高，越過高山再見高山。半導體設備是半導體產業鏈的基石，磨刀不誤砍柴工，穩扎穩打，才能彎道超車。

正如網友所言，如果真能突破，我們做二選一的選項，放棄男足，加持光刻機等相關設備研發。